Dopo il trattamento di superficie, gli impianti vengono puliti dai residui di lavorazione mediante lavaggi con solventi e quindi sottoposti ad un processo di decontaminazione superficiale mediante plasma freddo (Argon).
Gli atomi parzialmente ionizzati dell’Argon (gas inerte) agiscono come un’ulteriore sabbiatura atomica che promuove la rimozione dei contaminanti organici ed attiva la ionizzazione degli atomi superficiali del titanio, migliorando la bagnabilità dell’impianto. Le condizioni di trattamento adottate sugli impianti ShapeOne® forniscono le migliori caratteristiche ritenute importanti, allo stato della conoscenza attuale*, nei processi di guarigione implantare, sia in termini di morfologia superficiale che in termini di composizione chimica (pulizia della superficie). La pulizia con plasma, la pratica di confezionamento in ambiente controllato, l’assoluto rispetto di procedure “pulite”, i test di controllo qualità durante il processo produttivo, giocano un ruolo fondamentale nel controllo delle endotossine adese (pulizia biologica), principale agente di risposta immunologica alle superfici implantari.
* Valutazione del rapporto tra costo e qualità della pulizia superficiale di alcuni sistemi implantari in commercio Marco Morra, Clara Cassinelli, Giovanna Cascardo, Daniele Bollati. M. Morra, C.Cassinelli, Evaluation of Surface Contamination of Titanium Dental Implants by Lu-Sem: Comparation with XPS Mesurements Surface and Interface Analysts, Vol. 25, 983-984 (1997).
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